半导体显影设备背面清洗不干净是什么原因（半导体显影设备背面清洗不干净是什么原因）

半导体显影设备背面清洗不干净是什么原因

清洗设备问题、清洗液问题。1、清洗设备问题:显影机在工作的过程中经常会产生大量的水珠、油污以及细菌等污染物,这些物质如果长时间不清洁的话就会导致背面的性能下降或者无法达到预期的效果。

2、废液处理不好造成的;由于清洗剂中含有各种有害化学品,这些成分容易对身体健康有影响,所以造成排污水不畅通,从而引起清洗效果的不彻底,也使得清洗液浓度偏高或浓度的过低,导致清洗效率降低和清洗时间缩短。

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清洗方法:将显影设备背面的清洁剂倒入喷壶内(注意,喷嘴不可以打开)。使用清水对着清洗液进行冲洗。反之,则需要用清水清洗干净后再进行下一道工序。如果清洗液没有被彻底地冲洗掉的话,就必须重新安装显影设备。

清洗方式:将显影设备背面的水源注入喷枪中,让其浸泡一段时间后,利用清洗液的化学作用将其表面的污垢去除;也可采用机械刮削、高压水流或其他物理手段来清除附在设备上的污垢。